3 g的圆形

Gencoa的第三代小型圆形磁控管-目标直径为2“至5”-设计用于在低压范围下工作,包括±45°倾斜调节,气体喷射和一个后实用箱,用于DC, DC-脉冲,RF和HIPIMS工艺作为标准。

Gencoa的3G环形高压电源适用于从研发到小规模生产的应用。

通过最小限度地使用聚合物和新开发的磁性材料,该源可以在10-6 Torr范围内工作,改善了沉积速率,减少了电弧,减少了杂质,并获得了更高的涂层密度。

这些源可以配备一个选择和机械选项,导致性能优势适合于不同的应用,并构建可靠工作的DC, RF,脉冲DC和HiPIMS电源。

高产率(HY)磁体可安装在靶径为4”及以上的贵金属溅射靶材上,达到40%的靶材利用率。

关键特性

  • 低压溅射(10-6到10-2托)
  • ±45º倾斜角度调节(1°精度)
  • 标准目标大小
  • 高产量(HY)磁铁可用于4”和5”目标直径,提供>40%的目标使用
  • 内部注气为标准
  • 后接线盒作为射频和HIPIMS的标准
  • 容易更换目标和选择目标厚度(1-6mm)
  • 用于磁性材料溅射的高强度磁材
  • 间接或直接目标冷却(预配置)

机械的选择

3G圆形范围内的所有磁控管都可用于内部或外部安装,还有以下其他选项:手动或气动百叶窗,烟囱,壁挂式馈通,隐藏/水冷阳极。

下表显示了3G圆形磁控管的不同选项,以及每种机械选项。点击PDF图标下载所需目标尺寸的尺寸图纸。

倾斜 注气 工具盒 2" 3” 4"
3 g 内部
3克/ 内部
3 g b 内部
3 g c 内部
3 g e 外部

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