活跃的阳极

Gencoa率先使用可旋转磁控管和辅助阳极之间的电子磁引导来提高工艺性能,并获得了专利。像任何电路一样,等离子体需要一种将电子电流返回到阳极的方法来保持稳定和均匀。

平面磁控管有周围的暗空间屏蔽来收集等离子体电子。一个可旋转的磁控管不使用黑暗的空间屏蔽,这导致Gencoa开发了一种方法,磁引导电子到一个有效的阳极-所谓的活性阳极。有源阳极连接到地面,并利用磁捕获和气体注入来引导电子和气体激活。

优势

  • 低温沉积-在低25%衬底加热时,AA在直流放电中收集到100%的等离子电子
  • 在开关方波双阴极布局中,与交流电源模式的AA相比,AA的热降低了30%
  • 更好的均匀性-电子有一个线性均匀的地球返回在目标寿命期间没有漂移
  • 更低的缺陷-活性阳极减少电弧,因此缺陷作为更好的等离子体稳定性的结果
  • 更高的薄膜密度——对于更致密的薄膜,AA产生增强的基底离子轰击
  • 更硬的薄膜-如AA使玻璃上溅射碳涂层的硬度增加一倍至25 Gpa
  • 低应力—用AA和脉冲或交流功率模式沉积的薄膜内应力大大降低,衬底轰击周期在正负之间
  • 低电阻率ITO层是由于较低的损害等离子体溅射电压时,阳极是偏正的

有活性阳极的交流反应过程

AA一般接在直流型电源的正极上,使用开关交流型电源时接在地上。在阳极施加正电压的情况下,目标的阴极电压可以按与阳极电压相同的比例向下移动。这允许高达80伏特的目标放电减少。这是理想的低电压溅射ITO从一个可旋转的目标。下面的视频展示了一个例子。

有活性阳极的交流反应过程

使用交流电源之间的两个旋转磁控管是常见的反应性氧化物层和其他介电材料的高速率沉积。在两个靶材之间增加一个接地的有源阳极,提高了工艺的稳定性,从而减少了缺陷。由于电子被引导到阳极而没有将衬底浸入等离子体中,均匀性得到了改善。

对标准的交流阴极对和添加阳极的交流阴极对的薄膜结构进行分析,可以提高薄膜的密度。此外,随着内应力的降低,可以沉积更厚的层,从而提高对基板的附着力。

具有有源阳极的直流和脉冲直流无反应工艺

对于直流供电的等离子体,有源阳极提供了一个长期和均匀的电子收集,不受衬底移动或室壁涂层的干扰。有益的效果是在更好的均匀性,无论是在目标长度和延长的时间。AA还将降低沉积的温度,因为所有的电子都收集在阳极上,而不贡献额外的衬底加热。

作为一个应用实例,当塑料零件批量金属化时,塑料的排气会导致“半反应”型沉积并覆盖阳极表面。此外,如果使用HMDSO等离子体激活沉积来密封涂层部分,室的表面将被涂层。主动阳极通过氩气可以长期无故障运行。

具有有源阳极的直流和脉冲直流反应过程

使用脉冲直流与反应性气体,如果产生的涂层是电绝缘的,可能会有问题——由于室和所有部件被氧化材料覆盖,导致“阳极消失”效应。有源阳极防止了这一点,允许任何无功过程稳定运行脉冲直流电源作为交流电源运行的替代方案。优点又体现在增强的均匀性上,同时也体现在单靶和双靶的使用上。

画廊

下载

相关应用程序

接触Gencoa

联系Gencoa在我们的利物浦总部,点击详细联系方式

有关国际代表的详情,请参阅我们的名单全球联系