圆形ffe

Gencoa全脸部侵蚀（FFE）磁体通过扫描目标表面的等离子体扫描，将超均匀膜与干净的靶标侵蚀结合在一起。

有两个版本的圆形FFE，具有75mm-200mm（3“至8”）的目标直径的独特设计，其中包括内部和外部安装座的选项，非常适合R＆D和Optics。

对于较大的底物，GENCOA提供250mm（10英寸）及更高的目标直径的圆形FFE，在低目标到底物分离下提供出色的均匀性控制（通常为50-70mm）。这种低目标间隔可确保高的距从目标到基材的材料转移速率，以快速晶圆金属化。

Gencoa的FFE磁控棒范围克服了进行高速率反应性沉积（例如结节生长速率）时遇到的许多传统困难，同时增加了总目标表面溅射区域。

高目标使用

目标使用量很高（在6mm目标上> 50％），即使在反应性溅射时也具有干净的目标，并且在目标表面上没有重新沉积区域，较少的弧和涂层数量较低。使用6“圆形FFE磁铁（FFE150），可以实现高达70％的目标使用。

统一

通过电动机驱动的动态等离子体扫描以溅射整个目标表面，并在目标外边缘处最大侵蚀来实现高均匀性。目标寿命没有统一性漂移。

均匀性将随目标对基底分离而变化。这也可以用来纠正目标侵蚀和晶圆大小的均匀性。12英寸圆形FFE磁控管（FFE300）可以将具有1-3％均匀性的层沉积在200mm晶圆上。

选项

Gencoa圆形FFE磁控杆可从3“至18” OD目标提供，并提供一系列机械选件。

• 内部或外部安装
• 倾斜轴安装
• 气体喷射
• RF电源选项
• 阳极冷却
• 电机和控制器的选择
• 快门（手动或自动）
• 溅射烟囱
• 壁挂式进料
• 隐藏的阳极

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