圆形的固定资产

Gencoa全表面侵蚀(FFE)磁场通过对目标表面等离子体的扫描,将超均匀薄膜与干净的目标侵蚀结合起来。

圆形FFE有两种版本可供选择,具有独特的目标直径为75mm-200mm(3“至8”)的设计,包括内部和外部安装选项,非常适合研发和光学。

对于较大的衬底,Gencoa提供250mm(10”)及以上的圆形FFE,在低目标-衬底分离(通常为50-70mm)时提供卓越的均匀性控制。这种低目标到衬底的分离确保了材料从目标到衬底的高速度快速金属化晶圆。

Gencoa的FFE系列磁控管克服了在进行高速率反应沉积时遇到的许多传统困难,如结节生长速度,同时增加了靶面溅射总面积。

高目标使用

靶材用量高(6mm靶材上>50%),即使反应溅射时靶材也很干净,靶材表面没有再沉积区,弧少,涂层缺陷少。使用6”环形FFE磁控管(FFE150)可达到70%的目标利用率。

均匀性

采用电机驱动的动态等离子体扫描技术对目标表面进行溅射,获得了较高的均匀度,并在目标外缘处实现了最大的腐蚀。目标生活没有统一的漂移。

均匀性随靶-衬底分离的不同而不同。这也可以用来修正靶材腐蚀和晶圆尺寸的均匀性。12”圆形FFE磁控管(FFE300)可以在200mm晶圆上沉积均匀度为1-3%的层。

选项

Gencoa环形FFE磁控管的外径范围从3”到18”,有一系列的机械选择。

  • 内部或外部安装
  • 倾斜轴载
  • 注气
  • 功率的选择
  • 阳极冷却
  • 电机和控制器的选择
  • 快门(手动或自动)
  • 溅射烟囱
  • 墙上挂载直通的
  • 隐藏的阳极

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