圆形ffe
Gencoa全脸部侵蚀(FFE)磁体通过扫描目标表面的等离子体扫描,将超均匀膜与干净的靶标侵蚀结合在一起。
有两个版本的圆形FFE,具有75mm-200mm(3“至8”)的目标直径的独特设计,其中包括内部和外部安装座的选项,非常适合R&D和Optics。
对于较大的底物,GENCOA提供250mm(10英寸)及更高的目标直径的圆形FFE,在低目标到底物分离下提供出色的均匀性控制(通常为50-70mm)。这种低目标间隔可确保高的距从目标到基材的材料转移速率,以快速晶圆金属化。
Gencoa的FFE磁控棒范围克服了进行高速率反应性沉积(例如结节生长速率)时遇到的许多传统困难,同时增加了总目标表面溅射区域。
高目标使用
目标使用量很高(在6mm目标上> 50%),即使在反应性溅射时也具有干净的目标,并且在目标表面上没有重新沉积区域,较少的弧和涂层数量较低。使用6“圆形FFE磁铁(FFE150),可以实现高达70%的目标使用。
统一
通过电动机驱动的动态等离子体扫描以溅射整个目标表面,并在目标外边缘处最大侵蚀来实现高均匀性。目标寿命没有统一性漂移。
均匀性将随目标对基底分离而变化。这也可以用来纠正目标侵蚀和晶圆大小的均匀性。12英寸圆形FFE磁控管(FFE300)可以将具有1-3%均匀性的层沉积在200mm晶圆上。
选项
Gencoa圆形FFE磁控杆可从3“至18” OD目标提供,并提供一系列机械选件。
- 内部或外部安装
- 倾斜轴安装
- 气体喷射
- RF电源选项
- 阳极冷却
- 电机和控制器的选择
- 快门(手动或自动)
- 溅射烟囱
- 壁挂式进料
- 隐藏的阳极
画廊
























下载
FFE300均匀性调整
圆形FFE300演示文稿
SVC TechCon 2019:使用HIPIMS和全脸侵蚀阴极沉积在微结构基板上的共形涂料
Gencoa FFE430
平面磁子的磁选择
FFE75圆形磁控管
Gencoa圆形FFE传单
SVC TechCon 2022:通过动态等离子体运动在圆形平面磁控杆上的动态等离子体运动的过程优势
相关应用程序
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