圆形的固定资产

Gencoa全面侵蚀(FFE)磁性通过扫描目标表面的等离子体将超均匀薄膜与干净的目标侵蚀结合起来。

圆形FFE有两种版本,目标直径为75mm-200mm(3“至8”)的独特设计,包括内部和外部安装选项,适用于研发和光学。

对于较大的基材,Gencoa提供目标直径为250mm(10”)以上的圆形FFE,在较低的目标-基材分离(通常为50-70mm)时提供卓越的均匀性控制。这种较低的目标-衬底分离确保了材料从目标到衬底的高速度转移,以实现快速晶圆金属化。

Gencoa的FFE磁控管系列克服了在进行高速率反应沉积时遇到的许多传统困难,如结核生长速率,同时增加了靶表面溅射的总面积。

采用电机驱动动态等离子体扫描实现了目标表面的均匀溅射,使目标外边缘的蚀损达到最大。目标寿命不存在均匀漂移。

高目标使用

靶材利用率高(6mm靶材的>50%),即使在反应溅射时靶材也很干净,靶材表面没有再沉积区域,电弧更少,涂层缺陷数量更少。使用6英寸圆形FFE磁控管(FFE150)可实现高达70%的目标使用。

均匀性

采用电机驱动的动态等离子体扫描实现了目标表面的高均匀度溅射,使目标外边缘的蚀损达到最大。目标寿命不存在均匀漂移。

均匀性也会随着目标与衬底的分离而变化。这也可以用来纠正目标腐蚀和晶圆尺寸的均匀性。12英寸圆形FFE磁控管(FFE300)可以在200mm晶圆上沉积1-3%的均匀性层。

选项

Gencoa圆形FFE磁控管可用于3”至18”外径目标,具有一系列机械选项。

  • 内部或外部安装
  • 倾斜轴载
  • 注气
  • 功率的选择
  • 阳极冷却
  • 电机和控制器的选择
  • 快门-手动或自动
  • 溅射烟囱
  • 墙上挂载直通的
  • 隐藏的阳极

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