Gencoa提供用于从R＆d到半导体制造应用的全面范围圆形磁控管，饮食。配置多种选择导致了真正的挑战过程中需求的解决方案。
第三代的HV源2" 到5" 直径的目标，与内部气体注射，间接或直接靶水冷和±45°的倾斜调整作为标准。
对于6“-16”直径的目标，提供Gencoa圆形磁控管的既定的设计，适合于涂覆更大的区域。
用于与通过使用马达驱动的动态等离子体扫描来实现高的靶使用溅射层的高速率沉积的唯一和强大的工具。
独特的伟易达磁控管允许施加磁场特性的变化。提供2" 目标直径至6" 。
注册到Gencoa的通讯收到展览新闻和动态，新产品发布。
