Gencoa提供全面的圆形磁控磁控磁控磁控管，用于从R＆D到半导体生产的应用。广泛的配置产生了解决实际过程需求的解决方案。
第三代HV光源为2“至5”靶直径，内部气体注入，间接或直接目标水冷却和±45°倾斜调整为标准。
对于6“-16”的目标直径，Gencoa提供了圆形磁控镜的建立设计，适用于涂覆较大的区域。
通过使用电动机驱动的动态等离子体扫描实现具有高目标使用的溅射层的高速沉积的独特而强大的工具。
独特的VTECH磁控管允许应用磁场属性的变化。可用于目标直径为2“至6”。
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