Gencoa提供全面的圆形磁控磁丝，从R＆D到半导体生产的应用。广泛的配置产生了解决实际过程要求的解决方案。
第三代HV光源为2“至5”目标直径，内部气体注入，间接或直接靶水冷和±45°倾斜调节为标准。
对于6“-16”的目标直径，GencoA提供了圆形磁控磁阻的建立设计，适用于涂覆较大的区域。
通过使用电动机驱动的动态等离子体扫描实现具有高目标用途的溅射层的高速沉积的独特而强大的工具。
独特的VTECH磁控管允许应用磁场属性的变化。可用于2“至6”的目标直径。
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