伟易达的通知

Gencoa的易达范围是供的2" 〜6" ,并允许在目标表面的磁特性的目标直径以通过简单的外部调节,其可以在处理期间或沉积运行之间进行改变。

在磁性能的变化产生不同的水平,以在涂覆过程的强度和离子辅助的,并允许薄膜结构的快速发展。独特的伟易达磁控管允许源创建以下效果的磁场属性的变量:

不平衡
不平衡的可变程度来调整电子释放和生长膜的离子轰击的程度。

平衡
为了减少额外的能量输入到生长膜和底物,并产生低轰击条件。

场强
到在为了调节放电电压和电流变化的磁场强度。这可以被用于补偿由于溅射靶溶蚀在放电电压的变化。

磁场形状

为了调整磁场的形状和与所述阳极的等离子体的因此相互作用以调节最小操作压力,击打压力和灭火压力。

对VTECH源产生由磁控管头内部的永久磁铁的操纵这些效果。这是通过调整,并且经由可编程控制器或PC接口更大磁控管由线性致动器位于所述真空凸缘的大气侧手册游标上小磁控管源完成的。这可让用户即时,简单的调整在很宽的范围。这可以在涂覆运行之前或动态的沉积工艺,以优化膜性能,并因此执行期间被执行。一个典型的例子是体积膜沉积过程中形成的粘附层和低轰击期间具有高的轰击。

从工艺或涂覆的视图发展点的附加优点是对于特定类型的膜的最佳等离子体和沉积条件的快速测定。这还允许在工艺参数以获得所需的膜性能可以迅速地确定的条件的操作包络和给出的等离子体条件,涂料性能的灵敏度的想法。

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