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研发商业服务

自1994年以来,Gencoa一直在创造创新的真空流程。那时,已经安装了内部技能和设备,这是在发展范围和发展速度方面无与伦比的。

实用服务涵盖PVD和PECVD层开发,等离子蚀刻/清洁研究,以及真空和大气的化学感测。

仿真和设计服务包括在晶片上为不同的层性质进行重新设计,以及为不同过程和系统类型建模磁场和层均匀性。

高度经验丰富的研发团队在2D和3D建模,电子,软件设计,过程反馈控制,光谱化学传感,等离子造型和测量,PVD和CVD层上,在2D和3D零件,蚀刻和清洁表面上创建PVD和CVD层的专业知识。

GencoA有八种真空开发机器,包括在幻灯片或50mm直径晶片上的小刻度涂层,0.5米,3d 3d零件,长等离子体试验和处理2.5米。

工作范围可以从新概念到试点生产,并在一天内进行,或者涉及持续数月的项目。除了内部开发外,工作人员还可以在客户网站上工作,以获得最终流程调整和产品测试/员工培训。

讨论与现有产品的新产品或改进有关的要求,请联系Gencoa.

最近在下面列出的一些过程工作的例子,并突出了我们专业化领域的一些领域:

  • 高压等离子体清洗玻璃上的碎片
  • 透明耐磨性大窗涂层开发
  • 低压(180V)从可旋转目标溅射ITO
  • 手机显示屏上的耐刮擦透明碳(与Nano4Energy合作的主要活动区域)
  • 氘氘(基于Optix)的遥感
  • 从大气中感测大麻素(基于Optix)
  • 传感汽车电池泄漏(OPTIX基)
  • 大天文望远镜层均匀性模拟
  • 高度杀菌涂料在视觉展示,食品包装和医疗保健产品(活动主要区域)
  • 用于离网发电的新型层堆栈
  • 快速等离子体蚀刻3D部件和表面(与N4E合作)
  • 微电子中使用的层的应力控制
  • 磁性设计和测试200和300mm晶圆涂层改进(主要区域)

成功是技能,设施和速度的结果。在真空沉积和等离子体过程中,我们在所有领域擅长。

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