硬涂层

Gencoa公司自20世纪90年代中期以来一直在开发用于工具涂层的工艺和磁控管,我们的员工在这方面的经验早于Gencoa公司的形成。

因此,Gencoa能够提供最佳的解决方案。

  • GRS-V可旋转磁控管与可选的VTR和有源阳极
  • 高能不平衡平面磁控管阴极(PP型)
  • VT和VTR可变磁控管
  • Speedflo反应性气体过程控制器
  • Optix真空气体监测器
  • 完成室磁模型,以优化电离水平
  • 工艺流程和现场执行
  • 成功的反应过程的泵送和气体计算

为了提供一个优化的硬或装饰涂层单位,各种各样的元素需要被仔细理解和正确设计。有两种选择:从一个成熟的制造商那里购买一个完整的交钥匙设备,或者购买关键部件并以正确的方式进行集成。如果采用了零件路线,则需要实施工艺规程来平衡刀具附着力、硬度和韧性。Gencoa可以提供并结合这些成分的所有元素,以确保一个成功的解决方案的最高机会。

成功的溅射基硬涂层工艺的关键因素是反应气体控制。Speedflo单元提供了一个高速气体控制,以优化速率,并能在涂层过程中改变设定值。这提供了一个高度的稳定性和高速率的过程。预编程的例程可被加载到Speedflo单元,可以创建分层的性质的层结构。另一个基本要素是在不需要过高衬底偏置(高偏置导致易碎的涂层)的情况下,为致密的涂层结构提供足够的电离。Gencoa有设计机床几何图形的经验,可以创建正确的工艺环境。没有所需的电离水平,就很难形成成功的层结构。

反应气体反馈控制的通常方法是从等离子体收集一个光信号,作为指示金属与反应气体的平衡,这种方法称为等离子体发射监测(PEM)。Gencoa现在已经开发出Speedflo单元来控制一个典型的硬涂层过程,直接从目标电压。这种非常理想的解决方案避免了成本和光纤位于或在处理室的不便。

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