臀部³
Hip³是一种新型的高速率离bob软件下载苹果子蚀刻技术。该技术提bob软件下载苹果供了基于正电压Hipims的表面制备和快速去除涂层或表面污染的技术。
快速基片蚀刻
该装置包括两个磁控管，在第一个阴极上施加+600V和150安培的Hipims型正脉冲，在衬底上施加直流偏置，脉冲用于绝缘涂层。
第二磁控管是有源的，直流功率低。在一起，该装置提供的速率高达标准氩脉冲等离子体蚀刻的20倍。
在蚀刻阶段之后，磁控管可以恢复到涂层源。
进一步的系统设置和一系列材料蚀刻数据的详细信息在支持的演示文件中。
易于适应现有的机器
hipV HiPIMS HiPlus Positive Pulsing Unit的引入，使得现有的机器可以适应Hip³涂层，需要两个磁控溅射源，其中一个使用Hip³操作模式。将直流或脉冲直流电源加到第二磁控管上。
基于Hip³蚀刻工艺的商业选择
Hip³技术是一项bob软件下载苹果新颖的技术，Gencoa和Nano4Energy将共同申请专利。
该技术可bob软件下载苹果以在现有设备上使用合适的电源，并可以商定应用该技术的许可证。
hipV HiPIMS HiPlus正脉冲单元可用于蚀刻模式的任何系统。
如果没有合适的源，Gencoa的紧凑型双电极Hip³可以添加到现有的系统中。
如需进一步信息，请联系(电子邮件保护)或Nano4Energy．
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