hip³

HIP³是一种用于高速离子蚀bob软件下载苹果刻的新技术。该技术基bob软件下载苹果于正电压HIPIMS提供表面制备和快速去除涂料或表面污染。

该设置涉及两个磁控杆，其中 +600V和150 AMPS HIPIMS样式正施加在第一阴极上，并且DC偏置施加到基材上，该底物脉冲用于绝缘涂层。

第二磁铁具有低直流功率的活性。总之，该设置的速率比标准的氩脉冲等离子体蚀刻高20倍。

遵循蚀刻阶段，磁控杆可以恢复为涂层源。

支持演示文稿中记录了设置系统的进一步详细信息和一系列材料的数据。

HIPV HIPIMS HIPLUS阳性脉冲单元的引入允许现有机器适用于Hip³涂层，并具有两个磁控溅射源，其中一种使用HIP³使用HIP³。DC或脉冲DC电源应用于第二磁铁。

HIP³技术是新颖bob软件下载苹果的，并且受Gencoa和Nano4energy的联合专利申请。

该技术可bob软件下载苹果以在具有合适的电源的现有设备上实施，并且可以商定应用该技术的许可证。

HIPV HIPIMS HIPLUS阳性脉冲单元可用于将蚀刻模式应用于任何系统。

如果尚未存在合适的来源，则可以将Gencoa紧凑的双电极添加到现有系统中。

有关更多信息，请联系[电子邮件保护]或者纳米4energy。