圆形离子源
Gencoa的IMC75是无缝和自中和圆形离子源，标志着离子蚀刻的新一代。
IMC75具有长期的维护周期 - 无论是在反应和惰性的环境中 - 并且运行范围高达90mA，高达3kV。
没有污染，使产品适用于半导体应用。其他应用包括基板预清洁，离子辅助，蚀刻/纹理和PAPVD沉积。
IMC75易于装配，1“轴安装和外径为5”，是Gencoa新型3“和4”圆形侵蚀磁控管的理想对。
主要特征
- 反向磁控管离子束
- 自中和离子束
- 大压力范围内的工作压力（E-4至E-3曼巴）
- 倾斜头 - 离子角度控制
- 稳定的离子束电流和离子能量分布
- 反馈控制
- 可以提供各种气体饲料
- 没有污染
- 适用于半导体工业
IMC75离子蚀刻应用
- 纳米纹理
- 涂层清除
- 改善涂层粘附
- ITO和银沉积援助
- PACVD - DLC沉积
- 离子束沉积
画廊
