圆形的离子源

Gencoa的IMC75是一种无网格和自中和的圆形离子源,标志着离子蚀刻的新一代。

IMC75具有很长的维护周期——无论是在反应性和惰性环境中——并具有高达90mA和3kV的操作范围。

无污染,使产品适用于半导体应用。其他应用包括基片预清洁,离子辅助,蚀刻/纹理和PACVD沉积。

IMC75易于安装,具有1”轴安装和外径5”,是Gencoa新型3”和4”圆形全表面腐蚀磁控管的理想搭配。

关键特性

  • 反向磁控管离子束
  • 自中和离子束
  • 大压力范围内的工作压力(E-4至e - 3mbar)
  • 倾斜头-离子角度控制
  • 稳定的离子束电流和离子能量分布
  • 反馈控制
  • 各种气体供应可能
  • 没有污染
  • 适用于半导体行业

IMC75离子蚀刻应用

  • Nanotexturing
  • 涂层去除
  • 提高涂层附着力
  • ITO和银沉积辅助
  • PACVD - DLC沉积
  • 离子束沉积

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