圆形的离子源

Gencoa的IMC75是一种无网格和自中和的圆形离子源，标志着离子蚀刻的新一代。

IMC75具有很长的维护周期——无论是在反应性和惰性环境中——并具有高达90mA和3kV的操作范围。

无污染，使产品适用于半导体应用。其他应用包括基片预清洁，离子辅助，蚀刻/纹理和PACVD沉积。

IMC75易于安装，具有1”轴安装和外径5”，是Gencoa新型3”和4”圆形全表面腐蚀磁控管的理想搭配。

关键特性

• 反向磁控管离子束
• 自中和离子束
• 大压力范围内的工作压力(E-4至e - 3mbar)
• 倾斜头-离子角度控制
• 稳定的离子束电流和离子能量分布
• 反馈控制
• 各种气体供应可能
• 没有污染
• 适用于半导体行业

IMC75离子蚀刻应用

• Nanotexturing
• 涂层去除
• 提高涂层附着力
• ITO和银沉积辅助
• PACVD - DLC沉积
• 离子束沉积

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