圆形的离子源

Gencoa IMC75是一种紧凑而强大的自中和循环离子源，适用于各种应用，并可与相关电源提供改进的控制和两种气体的自动调节。

在不产生污染的情况下，IMC75适用于半导体应用，以及其他工艺，包括金属、聚合物和陶瓷的衬底预处理、离子辅助、蚀刻/变形和PACVD沉积。

IMC75具有较长的维护周期——无论是在无反应环境还是惰性环境中——并具有高达90mA和3kV的工作范围。由于其集成的闭环反馈控制，提供了稳定的离子束电流和离子能量分布。

IMC75很容易安装，具有1“轴安装，外径5”和倾斜头部离子角度控制。它可以与3”或4”Gencoa圆形全面侵蚀磁控管配对，作为研发应用的集群解决方案。

关键特性

• 反向磁控管离子束
• 自中和离子束
• 无网格设计，无灯丝
• 工作压力范围大(E-4至e - 3mbar)
• 倾斜头部-离子角度控制
• 稳定的离子束电流和离子能量分布
• 反馈控制
• 可提供多种供气方式
• 没有污染
• 适用于半导体行业

IMC75离子蚀刻应用

• Nanotexturing
• 涂层去除
• 提高涂层附着力
• ITO和镀银辅助
• PACVD - DLC沉积
• 离子束沉积

IM300电源

自动气体反馈控制多达两种气体可以实现与包含相关IM300电源的反馈控制，并且通过也包括一个Speedflo或者Speedflo Mini。

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