圆形离子源
GENCOA IMC75是一种紧凑而强大的自我中和圆形离子源,适用于一系列应用,可提供相关的电源,可改善控制和自动调节两种气体。
没有产生污染,IMC75适用于半导体应用,其他过程包括金属,聚合物和陶瓷的底物预处理,离子辅助,蚀刻/纹理和PACVD沉积。
IMC75在反应性和惰性环境中具有较长的维护周期 - 并且运行范围高达90mA,最高为3KV。由于其集成的闭环反馈控制,它提供了稳定的离子束电流和离子能分布。
IMC75易于贴合,带有1英寸轴的安装座,外径为5英寸,倾斜头进行离子角控制。它可以与3“或4” GENCOA圆形全面部侵蚀磁子作为研发应用的群集解决方案配对。
主要特征
- 反磁控管离子束
- 自中和离子束
- 无丝的无网设计
- 在较大压力范围内的工作压力(E-4至E-3 MBAR)
- 倾斜头 - 离子角控制
- 稳定的离子束电流和离子能分布
- 反馈控制
- 可能的气体饲料种类
- 没有污染
- 适合半导体行业
IMC75离子蚀刻应用
- 纳米纹理
- 去除涂料
- 改善涂层粘附
- ITO和银沉积协助
- PACVD -DLC沉积
- 离子束沉积
IM300电源
使用相关的自动气体反馈控制最多可实现两种气体IM300电源,以及包括一个以上气体的反馈控制也可以通过包括Speedflo或Speedflo迷你单元。
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