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圆形离子源

GENCOA IMC75是一种紧凑而强大的自我中和圆形离子源,适用于一系列应用,可提供相关的电源,可改善控制和自动调节两种气体。

没有产生污染,IMC75适用于半导体应用,其他过程包括金属,聚合物和陶瓷的底物预处理,离子辅助,蚀刻/纹理和PACVD沉积。

IMC75在反应性和惰性环境中具有较长的维护周期 - 并且运行范围高达90mA,最高为3KV。由于其集成的闭环反馈控制,它提供了稳定的离子束电流和离子能分布。

IMC75易于贴合,带有1英寸轴的安装座,外径为5英寸,倾斜头进行离子角控制。它可以与3“或4” GENCOA圆形全面部侵蚀磁子作为研发应用的群集解决方案配对。

主要特征

  • 反磁控管离子束
  • 自中和离子束
  • 无丝的无网设计
  • 在较大压力范围内的工作压力(E-4至E-3 MBAR)
  • 倾斜头 - 离子角控制
  • 稳定的离子束电流和离子能分布
  • 反馈控制
  • 可能的气体饲料种类
  • 没有污染
  • 适合半导体行业

IMC75离子蚀刻应用

  • 纳米纹理
  • 去除涂料
  • 改善涂层粘附
  • ITO和银沉积协助
  • PACVD -DLC沉积
  • 离子束沉积

IM300电源

使用相关的自动气体反馈控制最多可实现两种气体IM300电源,以及包括一个以上气体的反馈控制也可以通过包括Speedflo或Speedflo迷你单元。

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