等离子体源

Gencoa提供一系列基于直流、交流和HIPIMS功率模式的等离子体源技术,应用bob软件下载苹果范围包括预清洗、涂层去除和离子束沉积。

线性离子源

Gencoa的线性离子源在PVD涂层应用之前,为聚合物和玻璃基板的预清洁提供了一种强大而灵活的方法。

IMC75

一个紧凑,坚固,操作简单的圆形离子源,可选择内部或外部安装的研发和小的衬底尺寸。

等离子体处理器

一种用于高速处理金属基片和聚合物网的交流放电等离子体处理机。

活性氧等离子体源

一种用于基体预处理和基辅助溅射的大功率气体等离子体源。

电力供应

IM3000和IM300提供了一个完整的高电压控制包的圆形和线性离子源。

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产品宣传册

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