线性离子源
Gencoa的线性离子源是在薄膜沉积之前对聚合物和玻璃基板进行预清洗的一种坚固而灵活的方法。产生的等离子射流冲击基材，燃烧碳氢化合物，并激活表面，以促进沉积膜的粘附。
强烈的等离子体喷流是由磁场和电场结合在气体通过的一个或多个气体通过的狭窄间隙中产生的。直流电源模式可应用于1.5-3kV范围内的典型电压，以提供“高”冲击等离子体预处理。使用纯氩气产生最有效的等离子体清洗，但任何气体的组合都可以使用。等离子体也可用于气相沉积和聚合。Gencoa离子源具有独特的石墨阳极和阴极保护功能，可将源的侵蚀降低到低水平。石墨为基础的硬件在其他类型的等离子体源中是标准的，但只有Gencoa拥有它的线性离子源。
坚固和易于维修的设计可在任何长度和各种内部，外部或悬臂安装。IM系列不推荐用于金属衬底或非常高速的网板运动，因为放电电流不超过1A / m长度。Gencoa提供一系列不同的基于磁控管的高功率磁增强等离子体产生电极解决方案。
关键特性
- 优化磁场，在标准溅射压力下产生准直等离子束
- 气体自动调节，保持恒定的电流和电压-多气体自动控制
- 石墨阳极和阴极保护衬底免受污染，并提供长寿命的组件
- 所有离子源上的射频标准电绝缘
- 阳极和阴极直接冷却-部件快速切换
- 易于开关的阴极部分，以提供多个磁陷阱较低的电压操作，或聚焦波束
- 电压调节电源与气体调节反馈，以保持相同的电流在任何时候
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