线性离子源

通过Gencoa线性离子源之前,薄膜沉积预清洁聚合物和玻璃基板一个强大和灵活的手段。产生的冲击在基材上的等离子体射流烧掉烃类和活化表面以促进沉积膜的附着力。

激烈的等离子体射流被磁和电场跨过狭窄的间隙,通过该气体或气体通过组合产生。DC功率模式可以在1.5-3kV范围内提供一个“高”冲击等离子体预处理典型电压来施加。使用纯氩气的产生最有效的等离子体清洗,但也可以使用气体的任何组合。等离子体也可用于通过气相沉积和聚合。Gencoa离子源具有石墨阳极和阴极保护的独特的功能,以减少源到低水平的侵蚀。基于石墨的硬件是在其他类型的等离子体源的标准,但只有Gencoa具有它为线性离子源。

鲁棒和易于维护的设计是在任何长度和各种内部,外部或悬臂mounts.The IM系列购不推荐用于金属基材或非常高的速度幅动作为放电电流不超过每米长度1A。Gencoa提供一系列的高功率磁增强等离子体生成电极不同磁控管基础的解决方案的。

主要特点

  • 优化的磁场以产生在标准溅射压力一个准直等离子束
  • 用于气体自动调节,以保持恒定的电流和电压 - 多气体自动控制
  • 石墨阳极和阴极保护基材免受污染和提供长寿命元器件
  • 上的所有离子源RF标准的电绝缘
  • 在直接的阳极和阴极的冷却 - 部分的快速切换
  • 的阴极部件易于交换到较低的电压运行,或聚焦光束提供多个磁阱
  • 气体调节反馈电压稳压电源,以保持在任何时候都相同的电流

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