光纤

光学涂层可分为“大规模”和“小规模”。为简单起见,我们在大小与小规模的舞台上,其中光学层通常产生的非常高的水平的控制和均匀性超过了的面积约为20" “精确”光学(0.5M)关联起来。其它大规模的光学效果如窗玻璃和显示器涂层产生具有较低水平的精度,将在玻璃涂层部所覆盖。

精密光学领域涵盖了广泛的应用领域,但光学效果可以被分解成不同的类型:

  • 抗反射AR,简单可见波长或特定
  • 后视镜,金属,电介质,增强和保护
  • 二向色性和偏振过滤器
  • 光谱选择性边缘滤波器

所有这些类型的涂层的共同方面是需要建立一个透明的多层结构。使用不同的层的厚度和每一层的折射率不同,涂层结构可以构建以产生期望的光学效果。软件计算和模拟的现代方法可以设计的结构和光学响应沉积在实际涂覆之前。它是在光学设计方面有成熟的领域,但实际创作层仍然非常苛刻。

溅射是不产生这样的层,的确是一个更成熟的方法是基于电子束蒸发的大源衬底距离和基片控制的唯一方法。为了提供额外的能量和层/界面平滑等离子体辅助源提供同时轰击。这些电子束的方法是光学滤波器制造的传统手段,然而溅射正在成为以类似的方式,以半导体行业如何转向溅射沉积更加明显。溅射通常用于具有低(2“-10”)靶到基底的分离和通常不需要额外的能量的附加等离子体源。为了保持入射高角度需要该引线层之间的清晰的界面,以一个“战斗”以创建非常高的水平的均匀性所必需的用于这种精密光学器件。有许多专有方法来产生这种均匀的层和它们一般使用一个或多个以下方法:

  • 衬底控制
    • 1,2或3个轴
    • 恒定速度
    • 变速
    • 固定或可变倾斜
  • 均匀口罩
    • 静态形口罩
    • 动态
  • 系统几何
    • 源至基板中心和相对角度
    • 自定义配置文件侵蚀

无论采用哪种方法来创建所需的均匀性,从溅射源的氧化物层的沉积在反应性气体环境中,通常进行。为了提高速度,减少周期时间,目标通常会在“过渡”模式下运行。这使得能够同时反应气体的正确的电平被用来维持所需的化学计量的溅射率是高的。这是一种极不稳定的过程,并且需要这样或者是反馈气体控制器作为Speedflo或非常高的系统泵送用于“平坦”的磁滞曲线,并生成在过渡区中的一些稳定性。Gencoa是磁控管设计反应溅射环境专家。Gencoa可以提供,其以互补的方式来提供平滑和高速率处理操作每个基本元件中的溶液。用于精密光学应用的基本要素包括:

  • 目标再沉积的低电平(或FFE零重新存款)
  • 低工作电压和压力(HS)
  • 电浮动和水冷阳极
  • 定制侵蚀型材
  • Speedflo反应气体控制
  • 涂层均匀性的模拟
  • 额外的离子辅助磁性设计

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