光学

光学涂层可分为“大规模”和“小规模”。为了简单起见，我们将“精密”光学与小尺度光学领域联系起来，光学层通常在大约20英寸(0.5米)大小的区域内以非常高的控制水平和均匀性生产。其他大型光学效果，如窗玻璃和显示涂层的生产精度较低，将被覆盖在玻璃涂层部分。

精密光学领域涵盖了广泛的应用领域，但光学效应可以分为不同的类型:

• 抗反射AR，简单可见或波长特定
• 镜面，金属，介电，增强和保护
• 二向色和偏振滤波器
• 频谱选择性边缘滤波器

所有这些类型的涂层的共同方面是需要创建一个透明的多层结构。利用不同的层厚和每层的折射率，可以建立一个涂层结构，以产生所需的光学效果。现代的软件计算和仿真方法可以在实际涂层沉积前设计结构和光响应。在光学设计方面，这是一个成熟的领域，但实际的层的产生仍有很高的要求。

溅射并不是制造这种层的唯一方法，事实上，一种更成熟的方法是基于电子束蒸发与基材的距离和基材操作。为了提供额外的能量和平滑层/界面等离子体辅助源提供同步轰击。这些电子束方法是光学滤光片制造的传统方法，然而溅射现在变得越来越明显，就像半导体工业转向溅射沉积一样。溅射通常用于较低(2”-10”)的靶板分离，通常不需要额外的等离子体源来获得额外的能量。为了保持层与层之间的清晰界面，需要一个高的入射角，这就导致了一场“战斗”，以创造这种精密光学设备所必需的非常高水平的均匀性。有许多专有的方法来产生这样统一的层，他们通常使用以下一种或多种方法:

• 衬底操纵
  • 1 2 3轴
  • 恒速
  • 变速
  • 固定或可变倾斜
• 均匀的面具
  • 静态形状的面具
  • 动态
• 系统几何
  • 源到衬底中心和相对角度
  • 自定义侵蚀概况

无论使用哪种方法来产生所需的均匀性，从溅射源沉积氧化层通常在反应气体环境中进行。为了增加速率和减少周期时间，目标通常会在“过渡”模式下运行。这使得溅射产率高，同时使用正确的反应气体水平来维持所需的化学计量。这是一个高度不稳定的过程，要么需要一个反馈气体控制器(如Speedflo)，要么使用一个非常高的系统泵送来“压平”滞后曲线，并在过渡区域产生一些稳定性。Gencoa是设计反应溅射环境的磁控管的专家。Gencoa可以提供一个解决方案的每个基本要素，以一种互补的方式运作，以提供一个平稳和高速率的过程。精密光学应用的基本要素包括:

• 目标再存款水平低(或FFE为零再存款)
• 低工作电压和压力(HS)
• 电浮动和水冷阳极
• 定制侵蚀概况
• Speedflo反应性气体控制
• 涂层均匀性模拟
• 磁性设计为额外的离子协助