矩形VTFLEX

Gencoa VTF具有将溅射层均匀性调整至低于1%范围的无限灵活性,是VTech系列产品中的最新产品,可提供简单而精确的薄膜均匀性调整。

Gencoa的VTFLEX磁控管能够在等离子体跑道两侧的小段上独立调节磁场强度。不同的区段由手动数字定位器调整,该定位器增加或减少局部区域的场强。这些赛段可以在任何方向上缩回或倾斜,从而使整个赛道的场强发生平稳或“急剧”的变化。

调整场强的能力将导致等离子体密度的变化,从而改变溅射到基板上的材料数量。由于强度的可能变化范围很广,VTF磁控管可用于校正在线系统末端的均匀性,或作为一个独立源,以提供比标准更好的均匀性。

总的灵活性允许相对容易地实现小于1%的均匀性。在此过程中,还可以进行调整,以随时间一致地校正位移。

VTF磁控管在需要大面积射频溅射工艺的高均匀性时特别有用。更常见的DC和MF型电源模式可以进行调整,以实现特定产品所需的更高均匀性。

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